专家组对项目取得的技术创新与突破同时给予了充分的肯定，认为项目在整机研制中，采用反射式投影技术，实现DMD对图形灰度、曝光剂量的实时编辑；采用积木错位蝇眼透镜平滑衍射技术，实现平行均匀照明，不均匀性达到±0.5%；采用高精度投影物镜，实现投影式无掩模版光刻，其分辨力达1μm；采用计算机分级控制和光栅精密测量技术，实现工件台精密定位，误差小于±0.6μm；采用可编辑对准标记和CCD同轴对准技术，对准误差小于±0.35μm。一致同意该项目通过科技成果鉴定。

步进投影无掩模版数字化光刻机，是基于DMD（Digital Micromirror Device）的数字微镜阵列技术，形成数码掩模、并通过自动调焦、步进位移、投影成像、自动无逢拼接，实现无掩模版数字化光刻加工的新一代微细加工光刻设备。整机具备光学光刻、无掩模版、步进投影成像、对准和调焦标记可编辑等技术特征。因而设备分辨力高、灵活性好、研制成本及工艺加工成本较低等优点。它的成功研制，实现了从目前传统的直写或掩模版复制光刻方法向数字信息化光刻的跃进，为开展微纳器件等微纳加工特殊复合加工技术研制创造了坚实的条件支撑，对促进我国信息技术科学领域的技术进步有着显著的现实意义。

项目组将进一步加速科技成果的产业化，在经济与社会发展中发挥积极作用。